Другие журналы
|
электронный журналМОЛОДЕЖНЫЙ НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ВЕСТНИКИздатель Академия инженерных наук им. А.М. Прохорова. Эл No. ФС77-51038. ISSN 2307-0609
Оценка влияния толщины маскирующего покрытия шаблона на его литографические возможности
Молодежный научно-технический вестник # 07, июль 2013 УДК: 621.382
Файл статьи:
Благова С.В..pdf
(236.17Кб)
1. Конструкторско-технологическое проектирование электронных средств / под общ. редакцией В.А.Шахнова. – М.: Изд-во МГТУ им.Н.Э.Баумана, 2002. – 500 с. 2. Романова М.П. Бригаднов И.Ю. Учебное пособие. Фотошаблоны. – 2006. 3. Kamberian Henry. Technology review. Pellicles. – 2004. 4. Суровой Э.П. Еремеева Г.О. Теромпревращения наноразмерных слоев хрома – 2011. 5. Chris Mack. Fundamental principles of optical lithography. – Wiley, 2007. – 515 c. 6. Михальцов Е.П. Методика выполнения измерений линейных размеров элементов топологии на поверхности кремниевой пластины. – 19 с. Публикации с ключевыми словами: фотошаблон, пелликл, экспонирование, фигуры контроля линейных размеров Публикации со словами: фотошаблон, пелликл, экспонирование, фигуры контроля линейных размеров Смотри также: Тематические рубрики: Поделиться:
|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|