| ||||||||||||||||||||||||
электронный журнал
МОЛОДЕЖНЫЙ НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ВЕСТНИК
Издатель Академия инженерных наук им. А.М. Прохорова. Эл No. ФС77-51038. ISSN 2307-0609
Молодежный научно-технический вестник # 09, сентябрь 2014
УДК: 681.382
Ковалев Д.Д..pdf
(946.07Кб)
1. Волков С.И., Глушко А.А., Морозов С.А. Исследование и моделирование факторов, ограничивающих радиационную стойкость КНИ // Труды НИИСИ РАН. Математическое и компьютерное моделирование систем: прикладные аспекты. 2011. Т. 1. №1. С. 51-56.
2. Chris Mack. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication. Austin: Wiley, 2007. 534 p.
3. Design Rules MOSIS Scalable CMOS (SCMOS) (Revision 8.00) Режим доступа: http://www.mosis.com/files/scmos/scmos.pdf (дата обращения 23.07.2014).
4. Демин С.В., Амирханов А.В., Михальцов Е.П., Родионов И.А., Тафинцева Е.В. Особенности топологического проектирования субмикронных КМОП СБИС с учетом литографических ограничений // Математическое и компьютерное моделирование систем: теоретические и прикладные аспекты: сб. науч. тр. Москва, 2009. С. 24-31.
5. Ковалев Д.Д. Разработка правил коррекции и верификации типовых топологических ситуаций в слое металлизации библиотеки проектирования 0,25 мкм КМОП СБИС // XVI Международная молодежная научно-техническая конференция «Наукоемкие технологии и интеллектуальные системы» (Москва, 23-24 апреля 2014 г.): труды. Москва, 2014. С. 195-208.
Публикации с ключевыми словами: КНИ СБИС, методы повышения разрешающей способности литографии, верификация топологии, коррекция эффекта оптической близости
Публикации со словами: КНИ СБИС, методы повышения разрешающей способности литографии, верификация топологии, коррекция эффекта оптической близости
Смотри также:
Тематические рубрики:
| Авторы |
| Пресс-релизы |
| Библиотека |
| Конференции |
| Выставки |
| О проекте |
| Телефон: +7 (499) 263-61-98 |
|
 |
|||
| © 2003-2024 «Молодежный научно-технический вестник» Тел.: +7 (499) 263-61-98 | |||||
